1号 水質汚濁防止法施行令 別表第一（以下単に「別表第一」という。）第19号に掲げる施設（トリクロロエチレン又はテトラクロロエチレンを使用する染色又は薬液浸透の用に供するものに限る。）
2号 別表第1第22号に掲げる施設（六価クロム化合物又は砒素化合物を使用する木材の薬品処理の用に供するものに限る。）
3号 別表第1第23号の2に掲げる施設（トリクロロエチレン又はテトラクロロエチレンを使用する自動式のフイルムの現像洗浄又は自動式の感光膜付印刷版の現像洗浄の用に供するものに限る。）
4号 別表第1第24号に掲げる施設（ふつ素若しくはその化合物を含有する物質、ほう素若しくはその化合物又はアンモニア、アンモニウム化合物、亜硝酸化合物若しくは硝酸化合物を原料として使用する化学肥料の製造の用に供するものに限る。）
5号 削除
6号 別表第1第26号に掲げる施設（カドミウム若しくはその化合物、鉛若しくはその化合物又は水銀若しくはその化合物を含有する無機顔料の製造の用に供するものに限る。）
7号 別表第1第27号に掲げる施設（ 水質汚濁防止法施行令 第2条
《カドミウム等の物質 法第2項第1号の政…》
令で定める物質は、次に掲げる物質とする。 1 カドミウム及びその化合物 2 シアン化合物 3 有機燐りん化合物ジエチルパラニトロフエニルチオホスフエイト別名パラチオン、ジメチルパラニトロフエニルチオホ
各号に掲げる物質（以下「 有害物質 」という。）又はこれらを含有する物質を原料又は触媒として使用する無機化学工業製品の製造の用に供するもの及び黄燐の製造の用に供するものに限る。）
8号 別表第1第28号に掲げる施設（塩化ビニルモノマーの製造の用に供するものに限る。）
9号 別表第1第29号に掲げる施設
10号 別表第1第31号に掲げる施設（トリクロロエチレン又はテトラクロロエチレンを原料として使用するフロンガスの製造の用に供するものに限る。）
11号 別表第1第32号に掲げる施設（トリクロロエチレン若しくはテトラクロロエチレンを原料として使用する有機顔料若しくは合成染料の製造の用に供するもの又は銅フタロシアニン系顔料の製造の用に供するものに限る。）
12号 別表第1第33号に掲げる施設（塩化ビニルモノマーを原料として使用する合成樹脂の製造の用に供するもの、トリクロロエチレン若しくはテトラクロロエチレンを溶剤として使用するふつ素樹脂の製造の用に供するもの、1・4―ジオキサンを溶剤として使用する合成樹脂の製造の用に供するもの又はポリエチレンテレフタレートの製造の用に供するものに限る。）
13号 別表第1第34号に掲げる施設（テトラクロロエチレンを含有する物質若しくは2―クロロエチルビニルエーテルを原料として使用する合成ゴムの製造の用に供するもの又はニトリル・ブタジエンゴムの製造の用に供するものに限る。）
14号 別表第1第35号に掲げる施設（2―クロロエチルビニルエーテルの製造の用に供するものに限る。）
15号 別表第1第37号に掲げる施設（トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、アクリロニトリル、テレフタル酸（カドミウム化合物を触媒として使用して製造するものに限る。）、メチルメタアクリレートモノマー、ウレタン原料（硝酸化合物を原料として使用して製造するものに限る。）、高級アルコール（1分子を構成する炭素の原子の数が6個以上のアルコールをいい、ほう素化合物を触媒として使用して製造するものに限る。）、キシレン（ほう素化合物を触媒として使用し、又はふつ素化合物を溶剤として使用して製造するものに限る。）、アルキルベンゼン（ふつ素化合物を触媒として使用して製造するものに限る。）若しくはエチレンオキサイドの製造の用に供するもの又はエチレンオキサイドを原料として使用する石油化学製品の製造の用に供するものに限る。）
16号 別表第1第38号の2に掲げる施設
17号 別表第1第41号に掲げる施設（トリクロロエチレン又はテトラクロロエチレンを使用する抽出の用に供するものに限る。）
18号 別表第1第43号に掲げる施設
19号 別表第1第46号に掲げる施設（ 有害物質 若しくはこれらを含有する物質を原料若しくは触媒として使用し、又はトリクロロエチレン、テトラクロロエチレン若しくは1・4―ジオキサンを溶剤として使用する有機化学工業製品の製造の用に供するものに限る。）
20号 別表第1第47号に掲げる施設（水銀若しくはその化合物、鉛若しくはその化合物若しくは砒素若しくはその化合物若しくはこれらを含有する物質を原料若しくは触媒として使用し、又はトリクロロエチレン、テトラクロロエチレン若しくは1・4―ジオキサンを溶剤として使用する医薬品の製造の用に供するものに限る。）
21号 別表第1第48号に掲げる施設（ほう素若しくはその化合物、ふつ素若しくはその化合物又はアンモニア、アンモニウム化合物、亜硝酸化合物若しくは硝酸化合物を原料として使用する火薬の製造の用に供するものに限る。）
22号 別表第1第50号に掲げる施設（トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン又は1・4―ジオキサンの試薬の製造の用に供するものに限る。）
23号 別表第1第51号に掲げる施設（トリクロロエチレンを使用する潤滑油の洗浄の用に供するものに限る。）
24号 別表第1第53号に掲げる施設（硫化カドミウム、炭酸カドミウム、酸化鉛、ほう素若しくはその化合物若しくはふつ素化合物を原料として使用するガラス若しくはガラス製品の製造の用に供するもの又はトリクロロエチレン若しくはふつ素若しくはその化合物を使用する研摩洗浄の用に供するものに限る。）
25号 別表第1第58号に掲げる施設（ほう素化合物を原料として使用するうわ薬原料の精製の用に供するものに限る。）
26号 別表第1第61号に掲げる施設（コークスの製造又は転炉ガスの冷却洗浄の用に供するものに限る。）
27号 別表第1第62号に掲げる施設（銅、鉛若しくは亜鉛の第一次製錬若しくは鉛若しくは亜鉛の第二次製錬、水銀の精製又はふつ素化合物を原料として使用するウランの酸化物の製造の用に供するものに限る。）
28号 別表第1第63号に掲げる施設（液体浸炭による焼入れ、シアン化合物若しくは六価クロム化合物を使用する電解式洗浄、カドミウム電極若しくは鉛電極の化成又は水銀の精製の用に供するものに限る。）
29号 別表第1第63号の3に掲げる施設
30号 別表第1第64号に掲げる施設（コークス炉ガス又はコークスの製造の用に供するものに限る。）
31号 別表第1第65号に掲げる施設（クロム酸、ほう素若しくはその化合物、ふつ素若しくはその化合物又はアンモニア、アンモニウム化合物、亜硝酸化合物若しくは硝酸化合物による表面処理の用に供するものに限る。）
32号 別表第1第66号に掲げる施設（カドミウム化合物、シアン化合物、六価クロム化合物、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、ほう素化合物、ふつ素化合物又はアンモニウム化合物、亜硝酸化合物若しくは硝酸化合物を使用する電気めつきの用に供するものに限る。）
33号 別表第1第66号の2に掲げる施設
34号 別表第1第71号の5に掲げる施設
35号 別表第1第71号の6に掲げる施設